激光打標機的打標范圍是由場鏡來決定
激光打標機的標刻范圍取決于場鏡，它是工作在物鏡焦面附近的透鏡人們也稱之為：F-Theta場鏡，f-θ場鏡，激光掃描聚焦鏡，平場聚焦鏡。它是在不改變光學(xué)系統(tǒng)光學(xué)特性的前提下，改變成像光束位置。
場鏡按照波長分可分為：1064nm場鏡（也叫YAG場鏡）、10.6微米場鏡（也叫CO2場鏡）、532nm場鏡（也叫綠光場鏡）、355nm場鏡（也叫紫外場鏡）。一般來說10cm以內(nèi)都可以正常打標，但是打標范圍越大，那精細的程度也就相應(yīng)降低；并且每個鏡頭都有固定的焦距的。簡說激光打標機中場鏡
以下解釋轉(zhuǎn)摘于百度百科：場鏡的主要作用是：
（1）提高邊緣光束入射到探測器的能力；
（2）在相同的主光學(xué)系統(tǒng)中，附加場鏡將減少探測器的面積。如果使用同樣的探測器的面積，可擴大視場，增加入射的通量；
（3）可讓出像面位置放置調(diào)制盤，以解決無處放置調(diào)制器的問題；
（4）使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化；
（5）當使用平像場鏡時，可獲得平場像面；
（6）在像差校正方面，可以補償系統(tǒng)的場曲和畸變。
本文鏈接：http://www.8phd.com.cn/Read/488.html 轉(zhuǎn)載需授權(quán)！
