國產(chǎn)光刻機(jī)現(xiàn)在是什么水平？

浪起激光2020-06-16119387

中國的芯片制造是中國科技界心中永遠(yuǎn)的傷痛。

雖然現(xiàn)在我們可以獨(dú)立制造出中低端的芯片，但對于高端芯片仍然無能為力，就因?yàn)槲覀儧]有制造高端芯片的光刻機(jī)！

有人斷言，EUV光刻機(jī)太先進(jìn)了，如果我國未來5年可以買到，就能夠保證至少10年的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，那中國將會成為難以壓制的對手。然而，無奈的是，中芯國際多次向ASML提出購買光刻機(jī)設(shè)備，卻因?yàn)槊绹淖钃系确N種原因，ASML久久未能交貨。

按照用途，光刻機(jī)可分為生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)、用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)這三種。其中用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。國內(nèi)在這一領(lǐng)域差距太大，要想在短期內(nèi)實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代并不現(xiàn)實(shí)。

那國產(chǎn)的光刻機(jī)目前達(dá)到什么水平了？

目前，中國最牛的光刻機(jī)生產(chǎn)商是上海微電子裝備公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm，這就好比2020年的電腦還在使用2004年最新款的intel奔騰四處理器，也即是說，中國光刻機(jī)與荷蘭光刻機(jī)之間有著至少15年的差距……

據(jù)媒體報(bào)道，上海微電子裝備公司新一代的28nm浸沒式光刻機(jī)預(yù)計(jì)今年可以完成，但即使順利也得明年才能導(dǎo)入產(chǎn)線試產(chǎn)。

此前，我國在重大專項(xiàng)計(jì)劃中提出，2020年要實(shí)現(xiàn)22nm制程光刻機(jī)的突破，但目前還沒有成功的消息。即便實(shí)現(xiàn)這一突破，距離最先進(jìn)的7nm以下的EUV光刻機(jī)仍然遙遠(yuǎn)。

但好消息是，由于該技術(shù)進(jìn)步空間非常有限，隨著制程的不斷縮小，繼續(xù)壓縮制程的難度越來越大，留給我們還有相對充足的追趕時(shí)間。

只是我國在自主研發(fā)制造光刻機(jī)這件事上，因?yàn)槊绹募夹g(shù)封鎖，需要拿出單挑全世界的大氣魄，跟整個(gè)西方科技界死磕到底！

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